Wie <a href=http://www.degussa.com>Degussa</a> Aerosil & Silanes die Voraussetzungen für immer leistungsfähigere Computer und Mobiltelefone schafft. Komplexe, moderne Chips sind heute aus einer Vielzahl von Schichten aufgebaut, von denen jede, damit keine Fehler auftreten, absolut eben sein muss. Mit den nanoskaligen Oxiden von Degussa lassen sich diese empfindlichen Schichten nahezu atomar glatt polieren. Jüngstes Produkt des Spezialchemiekonzerns ist pyrogenes Ceroxid, das bereits in mehreren Tonnen pro Jahr hergestellt wird.
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Hochreine Silane kommen bei der Chip-Herstellung im CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition) zum Aufbau hauchdünner Schichten aus Silizium, Siliziumdioxid oder Siliziumnitrid auf den Wafern zum Einsatz. Im fertigen Mikrochip dienen sie als Halbleitersubstrate und Isolatoren. Neben den bereits etablierten CVD-Chemikalien verfügt Aerosil & Silanes über eine große Anzahl an Siliziumverbindungen, die im Umfeld innovativer Chipstrukturen benötigt werden. Sie sind die Voraussetzung für eine fortschreitende Miniaturisierung und damit immer leistungsfähigere Chips.
Das Potenzial der Chemie für die Halbleiterfertigung sei aber noch lange nicht ausgereizt. Je mehr sich die Dimensionen der Chipstrukturen der Größe einzelner Moleküle nähern, desto größer werde die Bedeutung, die der Entwurf maßgeschneiderter Moleküle spielt. Und das sei die Domäne der Chemie.
<small> <b><u>Aerosil & Silanes</u></b> erwirtschaftete 2004 einen Umsatz von 477 Mio € und beschäftigt 1.900 Mitarbeiter an 9 Standorten in Europa, den USA und Asien. Die pyrogene Kieselsäure Aerosil verstärkt Silikonkautschuk und sorgt für die richtige Konsistenz von Lacken, Kleb- und Dichtstoffen. Zudem kommt sie in der Pharmazie und bei der Herstellung von Kosmetika zum Einsatz und wird von der Mikrochipindustrie als ultrafeines Poliermittel genutzt. </small>Hochreine Chemikalien für die Chipherstellung
